概述：“集成电路，是指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品；集成电路布图设计，是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。”

申请周期：审查采用登记制，申请经初步审查合格即获准登记。登记过程较短，一般申请递交之后2-3个月左右可以拿到登记证。

所需材料：布图设计登记申请表、布图设计的复制件或者图样、布图设计已投入商业利用的,提交含有该布图设计的集成电路样品、国务院知识产权行政部门规定的其他材料 。

有效期：布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受到保护。